氨逃逸是指在燃煤電廠或其他工業(yè)過程中，使用選擇性催化還原(SCR)技術(shù)脫硝時(shí)，未能完全反應(yīng)的氨氣隨煙氣排出的現(xiàn)象。這一過程對后續(xù)的環(huán)保設(shè)備，尤其是布袋除塵器，有直接的影響。下面詳細(xì)解釋氨逃逸為什么不能過大和過小：

二、氨逃逸過大的影響

1. 腐蝕性增強(qiáng)：氨氣具有一定的堿性和腐蝕性，當(dāng)氨逃逸量大時(shí)，隨煙氣進(jìn)入后續(xù)處理設(shè)備如布袋除塵器，會增加對設(shè)備材質(zhì)（如不銹鋼、碳鋼等）的腐蝕，縮短設(shè)備壽命，增加維護(hù)成本。

2. 堵塞布袋：氨與煙氣中的酸性氣體（如二氧化硫、三氧化硫）反應(yīng)生成銨鹽，這些鹽類在低溫下容易在布袋表面冷凝，形成硬殼或結(jié)塊，導(dǎo)致布袋透氣性下降，過濾阻力增大，嚴(yán)重時(shí)可引起布袋堵塞，影響除塵效率。

3. 影響脫硫效率：氨逃逸還會干擾濕法脫硫系統(tǒng)的運(yùn)行，銨鹽的形成可能降低石灰石或其他脫硫劑的利用率，影響SO?的吸收效率。

4. 環(huán)境問題：氨逃逸到大氣中，不僅造成大氣污染，還可能參與二次顆粒物的形成，對空氣質(zhì)量產(chǎn)生負(fù)面影響，影響人體健康和生態(tài)系統(tǒng)。

三、氨逃逸過小的影響

雖然理論上氨逃逸減少是優(yōu)化脫硝效果的目標(biāo)，但如果控制得過小，也可能會帶來一些操作上的挑戰(zhàn)：

1. 脫硝效率降低：氨逃逸過小意味著更多的氨被用于NOx的還原反應(yīng)，但這實(shí)際上是一個(gè)理想狀態(tài)的描述。實(shí)際操作中，過于追求低氨逃逸可能導(dǎo)致SCR系統(tǒng)操作窗口變窄，稍有操作不當(dāng)就可能使NOx排放超標(biāo)。

2. 運(yùn)行穩(wěn)定性： SCR系統(tǒng)需要一定的氨逃逸作為“安全邊際”，以保證在煙氣條件波動時(shí)（如溫度、NOx濃度變化），仍有足夠的氨與NOx反應(yīng)，維持脫硝效率穩(wěn)定。

綜上所述，氨逃逸的控制需要平衡在確保高效脫硝的同時(shí)，避免對后續(xù)設(shè)備造成損害和環(huán)境污染，通常通過精確控制氨水或尿素的噴入量、優(yōu)化反應(yīng)條件（如溫度、停留時(shí)間）和加強(qiáng)系統(tǒng)監(jiān)控來實(shí)現(xiàn)。理想的氨逃逸率應(yīng)在一個(gè)既能保證高效脫硝又能保護(hù)后續(xù)設(shè)備、減少環(huán)境影響的范圍內(nèi)。

四、氨逃逸對布袋除塵器內(nèi)部的布袋組件主要有以下幾個(gè)方面的影響：

1. 化學(xué)腐蝕：氨氣具有堿性，盡管在正常運(yùn)行條件下氨逃逸量不大，不易直接對布袋構(gòu)成顯著威脅，但在設(shè)備停機(jī)期間若氨氣持續(xù)逃逸，其堿性可以與空氣中的水分反應(yīng)，生成氨水，對布袋材料（尤其是某些不耐堿的纖維材質(zhì)）造成化學(xué)腐蝕，減少布袋的使用壽命。

2. 硫酸氫氨糊袋：當(dāng)氨氣與煙氣中的二氧化硫及水蒸氣反應(yīng)時(shí)，會生成硫酸氫氨(NH?HSO?)，這是一種粘性的、易于在低溫下凝結(jié)的物質(zhì)。硫酸氫氨會在布袋表面沉積，導(dǎo)致“糊袋”現(xiàn)象，這會阻塞布袋的孔隙，減少有效過濾面積，增加運(yùn)行阻力，影響除塵效率。糊袋還可能導(dǎo)致清灰困難，增加能耗，縮短布袋的使用壽命，并可能對引風(fēng)機(jī)等后續(xù)設(shè)備造成負(fù)擔(dān)。

3. 催化劑中毒：雖然SCR（選擇性催化還原）裝置一般位于布袋除塵器之后，以防塵粒對催化劑的毒害，但氨逃逸量過大時(shí)，氨氣及其反應(yīng)產(chǎn)物可能通過某些途徑（如泄露或擴(kuò)散）間接影響到布袋除塵器前的催化劑，盡管這種影響相對較小，但仍需注意。

4. 物理堵塞：氨逃逸伴隨的銨鹽沉積不僅會影響布袋的過濾性能，還可能在某些條件下形成硬殼或結(jié)塊，物理性地堵塞布袋，進(jìn)一步惡化過濾效果。

為了減輕氨逃逸對布袋除塵器的影響，通常采取的措施包括優(yōu)化脫硝系統(tǒng)的運(yùn)行參數(shù)（如氨氮比、反應(yīng)溫度）、選擇耐腐蝕和抗粘附性能好的布袋材料、加強(qiáng)系統(tǒng)維護(hù)和定期清理，以及采用有效的在線監(jiān)測和預(yù)警系統(tǒng)來預(yù)防糊袋和腐蝕問題。

五、為什么安逃逸必須要小于10ppm？

氨逃逸的正常控制值依據(jù)不同的脫硝工藝和技術(shù)有不同的標(biāo)準(zhǔn)。普遍來看：

對于SNCR（選擇性非催化還原）脫硝技術(shù)，氨逃逸的標(biāo)準(zhǔn)一般不高于8mg/m3（或10ppm）。

對于SCR（選擇性催化還原）脫硝技術(shù)，氨逃逸的標(biāo)準(zhǔn)更為嚴(yán)格，一般要求控制在2.5mg/m3（或3ppm）以內(nèi)。

在實(shí)際運(yùn)行中，機(jī)組正常運(yùn)行時(shí)氨逃逸的數(shù)值一般維持在0~1.0mg/m3之間，常見范圍是0.3~0.8mg/m3，并且偶爾出現(xiàn)超出1.0mg/m3甚至達(dá)到2.0mg/m3的情況也被視為正常的數(shù)據(jù)波動。盡管如此，最佳實(shí)踐是盡量將氨逃逸水平控制在較低的范圍內(nèi)，以減少對環(huán)境的影響和設(shè)備的潛在損害，尤其是對于SCR系統(tǒng)，目標(biāo)是不超過3ppm。